Chińskie narzędzia DUV uderzają w ASML, ale Micron – z innego powodu

Chiny uruchomiły produkcję krajowych narzędzi do zanurzeniowej litografii głębokim ultrafioletem (DUV), podała 28 lipca agencja Reuters. Maszyny planuje dostarczać Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, spółka wspierana przez państwo. Odbiorcami mają być Semiconductor Manufacturing International, Hua Hong Semiconductor oraz producent pamięci ChangXin Memory Technologies.

Szacunki wskazują, że skala produkcji pozostanie niewielka: około 5 systemów w 2026 r. oraz około 20 systemów w 2027 r.

Informacja uderzyła w ASML Holding N.V. głównie przez proste zastępowanie produktów. Kontrole eksportu już wcześniej blokowały firmę przed sprzedażą do Chin jej najbardziej zaawansowanych systemów litografii w ekstremalnym ultrafiolecie (EUV), przez co w praktyce w tym kraju główną dostępną kategorią pozostają skanery DUV.

ASML podało, że Chiny wygenerowały 29%, czyli około 9,5 mld EUR, jego przychodów netto w 2025 r. Reuters Breakingviews wskazywał, że przychody te wiązały się z maszynami i usługami DUV. System krajowy, który przejdzie kwalifikację produkcyjną, mógłby zastąpić wybrane przyszłe zamówienia ASML na skanery i ograniczyć zależność chińskich wytwórni od serwisu ASML — nawet jeśli te wciąż preferują jego osiągi.

Wciąż nierozstrzygnięte pozostaje pojęcie „viable” — chodzi o to, czy systemy są w stanie zapewniać stabilne działanie na poziomie wymaganym w produkcji na wysoką skalę. Reuters donosi, że chińskie rozwiązania nadal pozostają w tyle za ASML pod względem osiągów i niezawodności oraz wymagają dalszych testów. Producenci chipów potrzebują m.in. dokładności nakładania warstw (overlay), uzysku (yield), przepustowości oraz ciągłej dostępności urządzeń (uptime) w długich cyklach produkcji o wysokiej wolumenowości. Planowana produkcja jest też skromna w porównaniu z dotychczasową zainstalowaną bazą ASML.

Rozwój ten zwiększa strategiczne ryzyko dla przyszłej sprzedaży ASML do Chin, ale nie oznacza, że narzędzia ASML zostały już faktycznie zastąpione.

Micron Technology, Inc. (MU) łączy ten temat z innym mechanizmem — przez wskazanego konkurenta oraz wąskie gardło w produkcji. CXMT, jeden z planowanych odbiorców narzędzi, działa w segmencie DRAM. Jeśli lokalnie serwisowalny sprzęt DUV do zanurzeniowej litografii w przyszłości pozwoli CXMT uzyskać kwalifikację i dostarczać bardziej niezawodne wolumeny pamięci „commodity” (masowej, standardowej), mimo bardziej restrykcyjnych ograniczeń dla zagranicznych narzędzi, dodatkowe bity mogłyby wywierać presję na ceny w branży oraz na marże Microna. To ryzyko wynikające z krzywej podaży, a nie dowód, że nowe systemy już teraz potrafią produkować konkurencyjną pamięć o wysokiej przepustowości dla wiodących akceleratorów AI.

Aktualne wyniki Microna ograniczają jednak najbardziej pesymistyczną interpretację. Za fiskalny trzeci kwartał zakończony 28 maja spółka podała 41,46 mld USD przychodów i stwierdziła, że przychody z segmentu centrów danych przekroczyły 25 mld USD. Zarząd dodał, że popyt na DRAM i NAND nadal przewyższa podaż w branży. Postęp Chin w DUV może wpływać na przyszłą krzywą podaży, ale nie unieważnia tych bieżących warunków.

Insider Monkey informował o 154 portfelach funduszy hedgingowych z długimi pozycjami w MU na 31 marca 2026 r., wobec 137 na 31 grudnia 2025 r. To jednak rozszerzenie nastąpiło dużo wcześniej niż doniesienie o krajowych narzędziach DUV.

Dane pokazywały też aktywność krótkich pozycji. Według ustaleń Insider Monkey 15 lipca sprzedano na krótko 36 211 849 akcji MU, czyli 3,21% public float (publicznie dostępnej części akcji). Do zamknięcia pozycji (days to cover) potrzeba było 0,8 dnia. Najnowszy raport 10-Q Microna nie wskazywał konwertowalnego długu ani planowanej fuzji akcji, więc obraz jest stosunkowo czytelny, ale ani odsetek short w public float, ani wskaźnik days to cover nie sugerują, by pozycje były „ciasno” skupione ani by wkrótce miało dojść do gwałtownego wykupu (squeeze).

Choć dostrzegamy potencjał MU jako inwestycji, uważamy, że część spółek z sektora AI oferuje większy potencjał wzrostu i wiąże się z mniejszym ryzykiem spadków.