Intel wykorzystuje technologię ASML High NA EUV w procesie 18A dla części Core Ultra 3

ASML Holding poinformował, że Intel Foundry wykorzystuje technologię High NA EUV firmy ASML na procesie Intel 18A. Produkcja dotyczy wybranej części procesorów Intel Core Ultra Series 3.

ASML nazwał to ważnym krokiem w potwierdzaniu gotowości High NA EUV w środowisku produkcyjnym. Konkretne warstwy (layers) węzła Intel 18A są już podwójnie dopuszczone (dual-qualified) do pracy na High NA EUV w Oregonie. Jednocześnie wysyłka produktów do klientów ma odbywać się przy uzyskach (yield) dopasowanych do platformy NXE.

„Dzięki większej rozdzielczości i lepszej kontroli procesu wprowadzenie High NA EUV oznacza istotny rozwój w litografii półprzewodnikowej” — powiedział Christophe Fouquet, prezes i dyrektor generalny ASML.

Intel rozwija tę współpracę w oparciu o wieloletnią relację z ASML. Spółka podkreśla, że zastosowanie kolejnej generacji High NA EUV ma umożliwić precyzyjne odwzorowanie wzorów potrzebnych do produkcji zaawansowanych układów.

„Ten kamień milowy odzwierciedla bliską współpracę techniczną Intela i ASML oraz pokazuje, jak High NA EUV można integrować z zaawansowanym wytwarzaniem półprzewodników na dużą skalę” — powiedział Naga Chandrasekaran, executive VP i general manager Intel Foundry.

Osobno holenderski producent sprzętu półprzewodnikowego podał, że obecnie oczekuje sprzedaży w całym roku w przedziale 43 mld–45 mld euro oraz marży brutto w przedziale 54–56%.