Intel Foundry uruchamia produkcję wysokowolumenową na węźle Intel 18A z High NA EUV firmy ASML

ASML Holding N.V. poinformowało, że Intel Foundry wykorzystuje technologię High NA EUV firmy ASML na węźle procesowym Intel 18A do wytwarzania wybranej części procesorów z serii Intel® Core™ Ultra Series 3.

To kolejny etap pokazujący gotowość technologii High NA EUV do pracy w warunkach produkcji na dużą skalę.

High NA EUV to proces litograficzny (technologia nanoszenia wzorów na chipy) o wysokiej aperturze numerycznej. Firma ASML rozwija tę metodę jako następny krok po EUV, aby umożliwić dokładniejsze odwzorowanie wzorów w zaawansowanym wytwarzaniu układów scalonych.

Procesory Intel® Core™ Ultra Series 3 o kodowej nazwie Panther Lake są budowane w architekturze Intel 18A. ASML i Intel wykorzystują High NA EUV do odwzorowania wybranych warstw tych produktów, aby zebrać dane przydatne do dalszego dopracowania ustawień systemu, czasu pracy bez przestojów (up time) oraz wdrożenia produkcji. Ma to torować drogę do szerszego przyjęcia technologii, z wykorzystaniem pełnych możliwości rozwiązania.

ASML podkreśla też, że wybrane warstwy dla procesu Intel 18A zostały „dual-qualified” (podwójnie zakwalifikowane) w technologii High NA EUV w Oregonie. Jednocześnie produkt jest wysyłany do klientów przy wydajności skorelowanej z platformą NXE.

Christophe Fouquet, prezes i dyrektor generalny ASML, powiedział, że większa rozdzielczość i lepsza kontrola procesu oznaczają istotny rozwój w litografii półprzewodnikowej.

Naga Chandrasekaran, dyrektor wykonawczy i general manager Intel Foundry, dodał, że to kamień milowy wynikający z bliskiej współpracy technicznej między Intelem a ASML. Jego zdaniem kwalifikacja opcji High NA EUV na wybranych warstwach Intel 18A pozwala obecnej flocie narzędzi zapewniać klientom większą produkcję, a jednocześnie wspiera rozwój przyszłych opcji dla uzyskania wiodących parametrów pod kątem osiągów, gęstości oraz elastyczności w nadchodzących węzłach.

W 2024 roku Intel i ASML zakończyły integrację pierwszego komercyjnego systemu litografii High NA EUV. Został on uruchomiony w ośrodku badawczo-rozwojowym firmy w Hillsboro w stanie Oregon. Intel Foundry jako pierwsza firma zainstalowała i przeszła testy akceptacyjne drugiej generacji narzędzia TWINSCAN EXE:5200B. System rozwija TWINSCAN EXE:5000 i zwiększa wydajność oraz dokładność overlay (dopasowania wzorów), a także otrzymał ulepszone źródło światła.

Przy tej zapowiedzi Intel Foundry wskazuje, że jako pierwsza w branży wysyła produkt wysokowolumenowy logiki (high-volume logic) wykorzystujący High NA EUV.